Abluftreinigung bei lösungsmittelhaltigen Prozessen

Reinigung von Abluft aus lösungsmittelhaltigen Prozessen mit UV-C und Ozon

Reinigungssystem speziell für stark riechende, organisch belastete Abluft aus lösungsmittelhaltigen Prozessen (Lackierarbeiten, Druck, Beschichtung)

• Vernichtet effektiv organische und geruchstragende Partikel
• Geeignet für Abluft mit flüchtigen organischen Verbindungen (VOC)
• Geeignet für styrolhaltige Abluft
• Unempfindlich gegen Lastschwankungen
• Automatische CIP-Reinigung der UV-C-/Ozon-Röhren

Anwendungen

• Trocknerabluft
• Abluft aus chemischen Prozessen, aus Beschichtungsprozessen,
• Lackierlinien
• Abluft von Laserrauch

UV-C/Ozon Abluftreinigungsanlage

UV-C/Ozon Abluftreinigungsanlage