• Abluftreinigung bei lösungsmittelhaltigen Prozessen

    Reinigung von Abluft aus lösungsmittelhaltigen Prozessen
    mit UV-C und Ozon

  • Abluftreinigung bei lösungsmittelhaltigen Prozessen

    Reinigungssystem speziell für stark riechende, organisch belastete Abluft
    aus Lackierarbeiten, Druck und Beschichtung

  • Abluftreinigung bei lösungsmittelhaltigen Prozessen

    Geeignet für Abluft
    mit flüchtigen organischen Verbindungen (VOC)

Abluftreinigung bei lösungsmittelhaltigen Prozessen

UV-C/ OzonReinigung von Abluft aus lösungsmittelhaltigen Prozessen mit UV-C und Ozon

Reinigungssystem speziell für stark riechende, organisch belastete Abluft aus lösungsmittelhaltigen Prozessen (Lackierarbeiten, Druck, Beschichtung)

  • Vernichtet effektiv organische und geruchstragende Partikel
  • Geeignet für Abluft mit flüchtigen organischen Verbindungen (VOC)
  • Geeignet für styrolhaltige Abluft
  • Unempfindlich gegen Lastschwankungen
  • Automatische CIP-Reinigung der UV-C-/Ozon-Röhren

Anwendungen

  • Trocknerabluft
  • Abluft aus chemischen Prozessen, aus Beschichtungsprozessen,
  • Lackierlinien
  • Abluft von Laserrauch
abluftreinigungsanlage-loesungsmittel
UV-C/Ozon Abluftreinigungsanlage
UV-C/Ozon Abluftreinigungsanlage
  • Verfahren zur Entfernung/ Verbrennung der Fette, Gesamt-C und Gerüche
    Verfahren zur Entfernung/ Verbrennung der Fette, Gesamt-C und Gerüche