Abluftreinigung bei lösungsmittelhaltigen Prozessen
Reinigung von Abluft aus lösungsmittelhaltigen Prozessen mit UV-C und Ozon
Reinigungssystem speziell für stark riechende, organisch belastete Abluft aus lösungsmittelhaltigen Prozessen (Lackierarbeiten, Druck, Beschichtung)
- Vernichtet effektiv organische und geruchstragende Partikel
- Geeignet für Abluft mit flüchtigen organischen Verbindungen (VOC)
- Geeignet für styrolhaltige Abluft
- Unempfindlich gegen Lastschwankungen
- Automatische CIP-Reinigung der UV-C-/Ozon-Röhren
Anwendungen
- Trocknerabluft
- Abluft aus chemischen Prozessen, aus Beschichtungsprozessen,
- Lackierlinien
- Abluft von Laserrauch
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