oxytec GmbH

Abluftreinigung bei lösungsmittelhaltigen Prozessen

Reinigung von Abluft aus lösungsmittelhaltigen Prozessen mit UV-C und Ozon

Reinigungssystem speziell für stark riechende, organisch belastete Abluft aus lösungsmittelhaltigen Prozessen (Lackierarbeiten, Druck, Beschichtung)

  • Vernichtet effektiv organische und geruchstragende Partikel
  • Geeignet für Abluft mit flüchtigen organischen Verbindungen (VOC)
  • Geeignet für styrolhaltige Abluft
  • Unempfindlich gegen Lastschwankungen
  • Automatische CIP-Reinigung der UV-C-/Ozon-Röhren

Anwendungen

  • Trocknerabluft
  • Abluft aus chemischen Prozessen, aus Beschichtungsprozessen,
  • Lackierlinien
  • Abluft von Laserrauch
abluftreinigungsanlage-loesungsmittel
UV-C/Ozon Abluftreinigungsanlage
UV-C/Ozon Abluftreinigungsanlage

  • Verfahren zur Entfernung/ Verbrennung der Fette, Gesamt-C und Gerüche
    Verfahren zur Entfernung/ Verbrennung der Fette, Gesamt-C und Gerüche

 

Luftreinigung | Wasserreinhaltung

Entkeimung | Desinfektion

Wir sind auf der GulfHost 2017 vom 18. – 20. September 2017, Dubai International Convention & Exhibition Centre, Dubai, U.A.E.

GulfHost 2017 vom 
18. – 20. September 2017, Dubai

>> Zur Website der Gulfhost Messe Dubai